隨著改革開放，中國的電子業獲得了飛速發展，電子工業的各個領域均進行了技術革新和技術引入，并逐漸形成系統和理論。在 sAI - f 技術這個領域也獲得了較大發展，甚至有的學院已經建立了關于 sN . ' l ' f 技術的專業。清洗是 sN1 ' f 工藝的一個重要組成部分，而對清洗后殘存的離子污染物的測試則是對清洗工藝進行控制和監測的一個重要組成部分。環境不僅關系到人類的生活，并且對電子產品的使用壽命和穩定性產生重要影響。在二次世界大戰期間，在戰斗中使用的電信器材的損壞有 5 ( ) “是由于環境氣候引起的腐蝕和霉變等造成的，而存放在庫房中的產品的損壞率高達以）嘆。由此，涂敷保護進入了電子業。而涂層是對外部環境的影響的阻隔，而在組裝產品生產過程中弓｝入的微粒污垢、離子性導電污垢和有腐蝕作用的污垢，如果未加清洗，則涂層失去了保護的意義，因為其內部已經受到污染。而清洗后一定要有一種手段能夠對其進行監控，即測試電路板是否已經達到了清潔標準。這就是要對離子污染進行測試的原因。美國最早對此進行了研究，并制定了相關標準。
什么是離子污染測試儀？離子污染物的特色是可溶于水，并且通常為有機或無機酸和鹽。電子部件和元器件經常暴露于波峰焊、熱空氣環境、電鍍、刻蝕和化學清潔的等工藝過程中的污染物。離子污染鋇 l 試是用超純凈的萃取溶液從電子部件上移去工藝過程中留下的殘余物。對清潔結果的鋇 l 量是以傳導率或電阻系數為評判依據，把鋇 l 量值與標準比較。在此，標準是在純的 75 " lP 刀 25 " 水溶液中鋇 l 量氯化鈉的傳導率或電阻系數。依據決定需要給出此讀數的 NaCI 的數量的方式，測試結果可以表示為一個傳導率或電阻系數的函數，或更好地表示為在每單位樣品面積上等量的氯化鈉。一個樣品測試讀數為 4 . 5 微克 NaCI ／平方厘米，意謂著在測試結束時傳導率或電阻系數等同于 4 . 5 微克 NaC ！給出的數據而不是實際鋇 l 到了 4 . 5 微克 Nacl 。
離子污染測試儀的起源 l 試的起源最早記載的污染萃取測量方法是由貝爾實驗室的’ f ．卜 Lgan 提出的。最初測試使用 l ( x ) % 去離子水。印第安那波利斯的海軍航空電子中心進行了改進，他們使用 IP . , v 水的混和物來提高去除松香殘余物。此方法需要一個人手動噴淋醇 l 水溶液到鋇 l 試樣品上面。一旦噴淋和收集的數量達到川 nll 每平方英寸測試樣品的表面積，則停止嘖琳并且側量溶液的電阻值。此方式成為最原始的“測量方法” ( M IL 一 P 一 288 （為）。由于通過／失敗限度，需要萃取的溶液必須有最小 2 入 p 的電阻值。， \ l 油 a mctal 的 Jack Br 曲、博士獨立開發了以“動態”方式著名的改進技術。后來的影響使這些鋇 l 試技術形成了兩種主要類型的測試儀器一一靜態和動態。
儀器用途：用于PCB電路板清洗工序前后離子污染程度的測試
儀器特點：1.結構采用全封閉循環系統2.測試方法：靜態/動態一體。3.可根據客戶要求容量定制
